Ethyllactaat van elektronische kwaliteit wordt gebruikt als oplosmiddel voor de fotoresist om de hars, de fotosensibilisator en de additieven op te lossen en zo een vloeibare fotoresist te vormen.

Nadat het etsen van de fotoresist is voltooid, moet de overtollige fotoresist worden verwijderd. Vroeger werd vaak NMP (1-methyl-2-pyrrolidon) gebruikt voor de reiniging, gevolgd door water en een alkalische oplossing. In veel landen wordt NMP echter gedefinieerd als een giftige chemische stof die niet alleen schadelijk is voor het milieu, maar ook potentieel schadelijk voor de gezondheid van de gebruikers. eSUN's milieuvriendelijke melkzuurethylether van elektronische kwaliteit kan NMP vervangen bij het reinigen van fotoresisten. Het gebruik van milieuvriendelijke reinigingsmiddelen in plaats van traditionele chemicaliën is ook een van de huidige trends in de industrie.

Tijdens het inkapselingsproces van het lcd-scherm ontstaan inkapselingsresten, die kunnen worden verwijderd met ethyllactaat. Vroeger werd NMP veel gebruikt voor de reiniging, maar vanwege de tekortkomingen ervan is het geleidelijk vervangen door ethyllactaat.

Het verwijderen van verontreinigingen uit waferproductieprocessen.