O lactato de etila de grau eletrônico é usado como solvente do fotorresiste para dissolver a resina, o fotossensibilizador e os aditivos para formar um fotorresiste líquido.

Após a conclusão da corrosão da fotorresistência, o excesso de fotorresistência precisa ser limpo. No passado, o NMP (1-metil-2-pirrolidona) era frequentemente usado para limpeza, seguido por água e solução alcalina. No entanto, em muitos países, o NMP é definido como um produto químico tóxico, prejudicial não apenas ao meio ambiente, mas também potencialmente prejudicial à saúde dos operadores. O éter etílico de ácido lático de grau eletrônico, ecologicamente correto, da eSUN pode substituir o NMP na limpeza de fotorresistências. O uso de agentes de limpeza ecologicamente corretos em vez de produtos químicos tradicionais também é uma das tendências atuais de desenvolvimento da indústria.

Durante o processo de encapsulamento do painel LCD, serão produzidos resíduos de encapsulamento, que podem ser limpos com lactato de etila. No passado, o NMP era comumente usado para limpeza, mas devido às suas deficiências, foi gradualmente substituído pelo lactato de etila.

Remoção de contaminação dos processos de fabricação de wafers.